近日，由中国计量院举办的“微电子和石墨烯产业中的测量、计量与表征”研讨会在昌平院区召开。此次研讨会以微电子产业和石墨烯产业对测量、计量和表征技术的需求为主要研讨内容，关注所涉及的测量与表征技术的发展前沿、关键技术和产业需求，来自中国、美国、英国、德国、法国、日本、澳大利亚等十几个国家或地区的计量院、研究院、高校、企业的50多名代表参会。

　　首先，中国计量院科管部负责人介绍了此次研讨会的举办背景和中国计量院的相关情况。包括中国计量院在内的国内外产、学、研、用单位的10位相关领域专家做了大会报告。报告内容涵盖：石墨烯产业发展与对标准、测量的需求与研究；多层石墨烯层数表征；基于椭偏光度法的薄膜物性表征；硅半导体产业的计量讨论；纳米存储芯片工程化中的测量与表征；中国计量院有关半导体产业可溯源几何量测量的研究；基于高分辨透射电镜和扫描电镜背散射衍射法对半导体微器件和薄膜应力/应变的测量；掠入射X射线反射法测纳米级薄膜的膜厚；光谱仪在半导体、石墨烯中的应用。

　　报告后，国外代表表示中国石墨烯与半导体产业的快速发展与不断提高的技术水平出乎意料，参会代表就相关问题进行了热烈的交流与讨论。随后，与会代表参观了中国计量院昌平院区新材料实验室。

　　通过主办此次研讨会，中国计量院促进了科研人员与企业的交流。一方面企业了解到测量表征的新技术，同时科研人员也开阔了思路与眼界，了解了微电子产业和石墨烯产业对测量与表征技术的需求，为更紧密地围绕产业需求进行科学研究，促进产、学、研相结合奠定了基础。